软件标签：Proteus WorkBench
Proteus WorkBench将为用户带来完整的光刻校准、优化和提升性能的强大解决方案！旨在为用户带来更多用于 OPC 开发和优化的 Cockpit 工具 ，其目的旨在为用户提供更多自动化功能以及优化性能和工作流程的能力，准确快速进行模型校准、调整、验证等操作，节省用户在复杂工程项目上所耗费的时间和精力！提高结果质量，简单操作，可全面定制您的使用，更多模块扩展功能！
功能特色
1、 好处
实现高速布局可视化和光刻性能分析
通过自动化节省工程时间
优化参数，实现无与伦比的全芯片OPC和RET性能
与Synopsys严格的光刻工艺模拟套件Sentaurus lithography（S-Litho）的接口
2、 布局编辑、查看和分析
PWB是一个强大的分层布局可视化和分析工具，能够在几分钟内加载GDSII或OASIS格式的千兆字节数据。它通过快速缩放和平移功能提供了轻松的探索，并允许用户交互式地创建和操纵布局模式，以探索高级OPC解决方案。
PWB采用了最新的用户界面技术，其架构使强大的功能易于使用且直观。
它支持所有对象的分层文件夹表示，包括布局、标尺和其他标记，如SEM图像。
这些也可以叠加并与布局对齐，以便与硅数据进行比较。
3、 层次选择、编辑和调试
分层选择和编辑允许用户选择和编辑层次结构深处的形状，而不需要打开子单元格。编辑操作具有撤消和重做支持。此外，用户可以在单个视图中叠加两个或多个布局，而无需合并底层布局文件。
调试布局及其层次结构对于大型芯片的最终设计至关重要，PWB为此提供了许多工具。
4、 高效的岩性轮廓生成
高度精确的ProGen模型——所有Synopsys掩模合成工具使用的相同模型——可以在PWB中应用，以快速确定所选布局片段的轮廓或空间图像。这种光刻响应允许用户探索先进的OPC技术或比较不同模型条件下的OPC性能，有助于评估不同RET策略的有效性。
5、 预测性、布局中心光刻过程模拟
随着工艺窗口的缩小，严格的光刻工艺模拟在制造应用中发挥着越来越重要的作用。PWB将Sentaurus光刻（S-Litho）无缝集成到其以布局为中心的环境中。严格的模拟能够精确可靠地预测工艺和布局变化的光刻结果。
抗蚀剂轮廓或3D抗蚀剂剖面信息等结果可以与布局信息一起直接可视化。
确定工艺窗口特性，并使用轮廓带在PWB中显示相应的结果。
S-Litho是大多数关键区域或工艺条件的理想热点验证工具，可以完全集成到Proteus LRC验证流程中，使用Proteus错误分析模块（PEAM）可以轻松审查结果，如图3所示。
此外，PWB为S-光刻胶校准器（SRC）提供了一个全面的用户界面，这是一个易于使用的环境，可以确定严格的抗蚀剂模型参数。这些“抗蚀剂模型”是通过将临界尺寸（CD）和剖面横截面等模拟结果与实验数据进行匹配而发现的。对于先进工艺，校准是强制性的，因为它受到晶圆厂特定曝光、抗蚀剂工艺和计量特性的影响。
6、 布局验证——设置和错误分析环境
PWB提供易于使用的环境，以支持验证工程师设置配方并审查光刻规则检查（LRC）期间报告的错误。
Proteus LRC配方设置GUl结合了减少人为错误和快速部署的最佳实践。它引导用户完成相关输入层和模型的定义，支持交互式特征分类，并帮助设置
2D和3D检查。
PEAM提供了一个直观且功能丰富的GUl环境，用于驱动到错误位置、查看直方图、统计摘要和结果的过程窗口分析。可以使用ProGen紧凑型模型或S Litho的严格模拟对错误进行排序和过滤、分类、绘图，并在这些位置进行光刻建模（见图3）。有关更多信息，请参阅Proteus LRC数据表。
7、 标准或定制流程的生产力平台
PWB通过连接各种Synopsys工具，提供了一个全面、灵活、易于使用的环境来设置和运行流程，从而实现了自定义应用程序的概念。用户可以修改和运行预定义的流，以及基于库中可用的组件构建新的流。
用于设置参数探索或优化的基本基础设施组件可用，包括用于计算资源分配和流并行化的工具。通过灵活的绘图和图表功能支持结果的可视化和分析。
例如，基本的单程校正流程允许用户使用Synopsys Proteus工具集在选定的布局片段上交互式运行OPC或光刻规则检查（LRC）。校正和/或验证配方应用于所选模式，帮助用户探索配方参数变化的影响，查看OPC结果，或交互式评估热点修复。
PWB提供了一系列强大的工具，使工程师能够进一步提高基于Proteus的掩模合成流程的结果质量。通过PWB工具栏，用户可以轻松访问这些应用程序并加载特定的GUl元素。整个工作环境可以定制；可以修改菜单和工具栏。PWB是完全可编程的，允许用户添加自己的宏和脚本来扩展功能，将PWB变成一个独特的工具箱来解决单个工程任务。
8、 Progen模型生成器在最短时间内实现精确模型
ProGen模型是反映光刻工艺性能的经验紧凑模型。通过拟合实验数据确定模型参数。ProGen Model Builder（PMB）提供了一个单独的工具集，用于高度自动化地校准这些参数，并对其进行调整以获得最佳性能。与独立的ProGen应用程序相比，PMB显著缩短了构建模型的时间，同时保持了专家的高精度标准- 校准模型。
新设计的用户界面引导用户完成各个模型构建步骤，例如定义光刻工艺条件、测试图案和定位经验数据。预定义的搜索算法和成本函数以及最佳实践被内置到校准例程中，以生成用于OPC和ReT的高度精确的模型。
此外，用户可以灵活地应用权重、修改成本函数或调整回归类型。输入数据以及中间校准和验证结果存储在数据库中，便于访问和比较。可以调整分布式处理方案以最小化周转时间。图4显示了PMB用户界面，包括其强大的模型分析和绘图功能。
9、 基于Metrokit设计的计量自动化
MetroKit是一个工具集，旨在促进和自动化与计量工具的接口过程，从而最大限度地减少工具停机时间，提高工程效率。该模块提供了生成参数化测试模式的能力，用于模型构建和布局整个测试光掩模，以及自动创建CD SEM数据收集的计量配方。
此外，它还支持计量数据的导入和分析、可视化、飞片检测和消除。用户可以创建用于模型调整和轮廓表征的量规文件。将重新格式化的数据集提供给其他Proteus应用程序，以确保计量信息的无缝部署。
10、 高效访问工作流应用程序
PWB配方工具能够经济高效地访问各种基于Proteus的应用程序流。它帮助用户分配计算资源，以便在多个集群节点上对探索或优化任务进行分布式处理。同时，PWB配方工具为流程中使用的Proteus组件启用了特定于流程的许可模式，有效地控制了对Proteus生产工具的访问，以进行OPC和RET开发。
11、 配方参数调整
配方参数调整（RPT）流表示通过工作流基础架构启用的简单而有效的应用程序流。对于给定的一组测试图案或关键布局片段，用户可以在很宽的范围内改变多个配方参数，应用OPC，并通过经过制造验证的光刻规则检查来评估相应的结果。基本流程如图所示
5，显示了工作流环境中的设置，以及用于实现此应用程序的组件。
嵌入在工作流环境中的广泛图表和绘图工具支持分析。分布式处理可以很容易地用于最小化运行时间，使用户能够探索大的参数空间，以优化传统OPC和ILT（逆光刻技术）中的部署配方。
12、 Proteus面膜治疗实现全芯片优化
PWB的工作流基础设施也用于建立更复杂的流程，例如基于Proteus工具的源掩码优化（SMO）流程。对于一组关键图案或单元，确定最佳照明源形状，同时优化掩模的印刷适应性。成本函数可以由用户灵活定义，并包含结果参数，如边缘放置误差、曝光宽容度、掩模误差增强因子（MEEF）或过程可变性参数，如PV带。支持参数化以及自由形式的像素化源类型。对于掩模处理，部署了经过生产验证的OPC或ILT配方，这确保了SMO特定掩模解决方案顺利转移到全芯片掩模合成应用中。
工作流基础架构（图6）不仅提供了设置和运行SMO流的环境，还提供了强大的可视化和分析功能，指导工程师完成优化过程。此外，该流程易于定制，以满足SMO应用的许多个性化要求。
闪电小编说明：
完整的功能，简化的工作流程，全面的工作环境，轻松开发、优化基于Proteus的掩模合成解决方案，迎接复杂的挑战，准确反应和调整，促进优化改进开发和评估
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