S-Metro是用于自动评估数值和基于图像的计量数据的强大工具箱！光刻工艺工程师使用它来评估和可视化关键尺寸（CD）计量数据。S-Metro确定表征光刻工艺性能的关键指标，如工艺窗口大小或曝光宽容度。 单独分析多个数据集，并报告重叠（或共同）的过程窗口。Synopsys S-Metro通过在Synopsys、Silicon WorkBench和Synopsys ProteusTM WorkBench解决方案中的布局查看器和编辑器工具中实现结果可视化，支持在布局上下文中审查和清理扫描电子显微镜（SEM）图像等计量数据。一旦收集，图像数据可以离线分析，节省宝贵的设备工具时间。 Synopsys S-Metro的基础设施能够处理数万个数据点，包括图像。分布式处理可用于加速轮廓提取和分析
功能特色
功能特色
1、基于仪表的计量
快速导入和评估基于仪表的测量结果，以表征光刻性能
从Hitachi（*.msr）和AMAT（*.cst）CD-SEM自动导入数据
对数据进行排序、分组和筛选，以便快速导航
利用相关的SEM图像进行数据验证和消除传单
确定单个和重叠的工艺窗口，包括矩形或椭圆形拟合
通过统计分析评估数据一致性
2、基于图像的计量
快速导入和分析SEM图像以鉴定光掩模或生成用于构建光刻模型的数据
从任何来源自动导入SEM图像
快速准确地将图像与布局对齐（GDS、OASIS）
强大且可定制的轮廓提取
广泛的轮廓分析功能
场内平均
CD、2D面积、音高、EPE评估
轮廓与CD匹配
S-Litho兼容型基于量规的线/空间图案和接触孔分析
将提取的轮廓导出为GDS或OASIS格式，用于后续光刻工艺模拟
自动化和并行化
通过python、tcl编写脚本;马可录音
在集群上实现高效的DP扩展，用于大容量数据处理
闪电小编说明：
来自任何来源的计量图像，无论是光掩模还是晶圆，都可以在 Synopsys S-Metro 中进行处理和分析。图像与相应的布局对齐，可以平均以提高对比度;提取轮廓以用于模型校准和验证以及训练机器学习模式。以一致和透明的方式自动处理 SEM 图像和 CD 数据。该基础架构能够处理数以万计的数据点，并在计算集群上很好地扩展。
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